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120TH半导体清洗用超纯水设备

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  半导体在常温下是介于导体和绝缘体之间的材料,半导体生产和清洗需要对水有一定要求,电阻率要在16兆欧以上。120T/H半导体清洗用超纯水设备采用先进的制水技术,可以有效去除原水中的各种杂质,出水水质可以达到18兆欧以上,完全满足行业用水需求。

  筒体常用不锈钢或铝合金制造,内壁多作抛光处理以提高对紫外线的反射能力和增强辐射强度,还可根据处理水量的大小调整紫外灯的数量。有的消毒器在筒体内壁加装了螺旋形叶片以改变水流的运动状态而避免出现死水和管道堵塞,所产生的紊流以及叶片锋利的边缘会打碎悬浮固体,使附着的微生物完全暴露于紫外线的辐射中,提高了消毒效率。

  半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

  1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

  2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)

  3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)

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